碳化硅的生产工艺
碳化硅碳生产工艺技术专题
创店时间20101118店铺介绍店铺853136199所在地广东深圳市商品数量285744温馨提示以下所有资料，共1337项，所有技术资料均为国家发明专利、实用新型专利和科研成果，资料中有技术说明书、技术配方、技术关键、工艺流程、图纸、质量标准、专家姓名等详实资料。所有技术资料承载物是软盘，可以邮寄软盘也可以用互联网将数据发到客户指定的电子邮箱网传免收邮费或通过传送。订购电话075528526626在线776423901853136199手机15818721055订购请记录好此光盘编号300152630本套共收费1000元本套光盘目录如下1BG52630一种碳化硅介孔材料及其制备方法资2BG52630一种高比表面积碳化硅及其制备方法料3BG52630一种碳化硅片状晶体的制备方法来4BG52630一种碳化硅陶瓷材料的压注成型工艺源5BG52630一种聚合物基碳化硅。
碳化硅生产工艺
1铒离子注入碳化硅后的射程分布和射程离散全文快照秦希峰季燕菊济南大学学报自然科学版2010年2期2SiCICP背面通孔刻蚀研究全文快照周瑞张雄文微纳电子技术2010年4期3PVT生长掺VSiC单晶的扫描电镜二次电子像衬度全文快照王香泉洪颖半导体技术2010年4期4提高SiCMESFET功率增益的研究全文快照娄辰潘宏菽半导体技术2010年4期5表面平滑性出色的功率半导体用SiC外延晶圆无现代材料动态2010年3期6张力调节系统在金刚石单线切割设备上的应用全文快照衣忠波王仲康电子工业专用设备2010年4期7球磨参数对机械合金化制备碳化硅粉体的影响全文快照高丽敏王振玲表面技术2010年2期8石油焦上调价格碳化硅涨价的必然全文快照无磨料磨具通讯2010年3期9SiAIONBndedCrundumrSiCCmpsitesSynthesizedinDifferentAtmspheres。
碳化硅微粉生产工艺介绍
公司传真037167821530公司邮箱zztyjq@126地址郑州中原西路张寨工业园首页新闻中心公司新闻点我返回碳化硅微粉生产工艺介绍碳化硅可以称为金钢砂或耐火砂，目前我国工业生产的碳化硅分为黑色碳化硅和绿色碳化硅两种。碳化硅主要有四大应用领域，有功能陶瓷、高级耐火材料、磨料及冶金原料方面。我们今天主要来谈谈碳化硅微粉的生产工艺和加工设备。加工碳化硅微粉，首先要将碳化硅原料经过颚式破碎机进行破碎，然后筛分得到不大于5毫米的碳化硅颗粒，之后采将碳化硅加工至不大于2毫米的碳化硅颗粒，再对其酸洗除杂和干燥。碳化硅颗粒进入下一步工序，就是磨粉生产线，现在大多采用高压悬辊磨粉机来加工碳化硅粉，可以得到80400目范围内的碳化硅微粉，包装之后就可以直接销售给其他相关应用领域。在此要提醒一些客户的是，采用筛分工序，是为了将碳化硅颗粒中的一些非溶性固体物质迅速清除，得到纯度较高、质量较好。
碳化硅微粉生产工艺流程图
一种碳化硅微粉的生产工艺，其特征在于，其步骤如下1取碳化硅原料，经破碎机中碎，并筛分至不大于5mm的碳化硅颗粒，再用整形机对其进行整形至不大于2mm的碳化硅颗粒，且其中椭圆形颗粒占80％以上，再对其进行酸洗除杂，干燥2将上述干燥后的碳化硅颗粒用磨粉机粉碎成d50＝95115μm的碳化硅粉，粉碎时，磨粉机主机电流设定为6575A，风机流量设定为4050m3min，分析机转速为400600转分3然后用涡流式气流分级机对碳化硅粉进行分级，分级时，涡流式气流分级机的风机流量为2543m3min，分级轮转速为26003300转分，从分级口分出粒度ds94＝6555μm的成品A，旋风口分出ds94≤55μm的半成品4将涡流式气流分级机旋风口分出的半成品用叶轮式气流分级机再进行二次分级，分级时，叶轮式气流分级机的风机流量为2510m3min，分级轮转速为13001700转分，从分级口分出。
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温馨提示我们不销售任何技术名称对应的实物产品和设备请购买实物产品和设备的朋友不要咨询谢谢!47BG20976在碳化硅中制造双极结晶体管的方法和得到的器件技术摘要提供一种在具有一般为第一导电类型的第一层碳化硅和一般为与第一导电类型相反的第二导电类型的第二层碳化硅的半导体结构中制造自对准双极结晶体管的方法。该方法包括在第二碳化硅层中形成柱状物，该柱状物具有侧壁并限定第二层的相邻水平表面在包括侧壁和水平表面的第二半导体层上形成具有预定厚度的氧化物层。形成氧化物层之后，各向异性刻蚀与侧壁相邻的一部分水平表面上的氧化物层，而至少一部分氧化物层留在侧壁上，由此露出一部分水平表面。然后用第一导电类型的掺杂剂掺杂水平表面的露出部分下面的一部分第二层，以便在第二层中形成掺杂阱区，该阱区与侧壁相隔的距离由氧化物层的厚度确定。还公开了得到的器件。48BG20976过渡金属氧化物／二氧化硅纳米复合。
谁知道碳化硅的用途及生产工艺
教育科学理工学科工程技术科学同问谁知道碳化硅的用途及生产工艺201103171032提问者yshrz111我来帮他解答推荐答案201103180953热心网友高性能半导体器件高压高电流密度高频率高温集合空间用于高端变频技术高铁航天器等评论按默认排序按时间排序其他回答共2条201208191708sdzbzhangyng一级⑴作为磨料，可用来做磨具，如砂轮、油石、磨头、砂瓦类等。⑵作为冶金脱氧剂和耐高温材料。碳化硅主要有四大应用领域，即功能陶瓷、高级耐火材料、磨料及冶金原料。目前碳化硅粗料已能大量供应，不能算高新技术产品，而技术含量极高的纳米级碳化硅粉体的应用短时间不可能形成规模经济。⑶高纯度的单晶，可用于制造半导体、制造碳化硅纤维。主要用途用于312英寸单晶硅、多晶硅、砷化钾、石英晶体等线切割。太阳能光伏产业、半导体产业、压电晶体产业工程性加工材料。评论2012072122。
碳化硅生产工艺专辑碳化硅陶瓷晶片过滤器烧结碳化硅场效应晶体管
温馨提示我们不销售任何技术名称对应的实物产品和设备请购买实物产品和设备的朋友不要咨询谢谢!102130060一种碳化硅介孔材料及其制备方法摘要一种碳化硅介孔材料是孔径分布在350nm范围内，比表面为60120m2gBET，形态为粉末状β晶型介孔碳化硅。其制备方法采用将酚醛树脂溶于无水乙醇或者*中，加入过渡金属盐在搅拌条件下，将硅酸乙酯、硅酸甲酯或者硅酸丙酯，无机酸加入，水解加入交联剂，室温进行凝胶在氩气保护下，升温反应，冷却到室温在空气中高温处理，并酸洗，水洗、过滤、烘干。本发明具有操作简单易行，设备简单，原料易得，成本低廉的优点。$202130064一种高比表面积碳化硅及其制备方法摘要一种高比表面积碳化硅的直径为1020nm，比表面积为60160m2g，孔径分布范围为3100nm。制备方法采用将酚醛树脂和乙醇或*混合，再将铝溶胶、正硅酸乙酯和酚醛树脂溶于混合溶液中，同时加。