mrf磁流抛光机

中国成世界唯一研磁流变和离子束抛光装备国家

离子束抛光抛光过程由计算机控制，具有加工精度高二无应力，加工面非常沽净无污染的特点，特别适合加工非球面镜面、正六边形镜面等，具有传统工艺无法比拟的优越性磁流变抛光技术，正是利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有黏塑行为的柔性小磨头与工件之间具有快速的相对运动，使工件表面受到很大的剪切力，从而使工件表面材料被去除。磁流变抛光英文名称Magnetrhelgicalfinishing磁流变抛光液原理磁流变液是由磁性颗粒、基液和稳定剂组成的悬浮液。1纳米有多长相当于一根头发丝直径的180000。亚纳米有多长小于1纳米1月中旬，国防科大精密工程创新团队自主研制的磁流变和离子束两种超精抛光装备，创造了光学零件加工的亚纳米精度，并通过国家权威部门验收。据专家介绍，这一成果使我国成为继美国、德国之后第3个掌握高精度光学零件制造加工技术的国家，并成为世界上唯一同时具有磁流变和离子束。

高效率磁流变抛光技术的研究与应用

陶晓峰摘要随着激光核聚变、航空、航天、宇宙探测、军事侦察等高科技领域的发展人们对光学零件的表面精度要求越来越高。在常规光学玻璃加工中研磨、抛光是最常用的制造光滑镜面的方法但是传统的抛光技术存在着效率低、精度不能满足现代光电技术发展的要求的问题。在过去的几十年里磁流变液已被广泛的应用于各种工程领域其性能也逐步提高。磁流变抛光技术MRF正是在磁流变液发展的基础上被提出的是一种新兴的光学表面精密加工技术。随着人们对超精密抛光技术的深入研究和超光滑检测技术水平的提高磁流变抛光技术以其优越的性能越来越受到广泛重视。本文主要做了以下几个方面的研究工作1研制磁流变抛光液。根据磁流变抛光的机理和特点提出了适用于K9光学玻璃抛光的磁流变液的要求。根据这一标准分析了磁流变抛光液各组成成分的作用原理及特性要求由此确定了磁流变抛光液的各组成成分和配置工艺路线成功研制了性能良好的磁流变抛光液。2材料。

磁流变抛光材料去除的研究

我要说几句掌握LabVIEW技巧步步为营国防与航空航天应用解决方案与产品选型指为什么使用LabVIEW进行仪器控制NI嵌入式控制与监测平台手册首先简要阐述了磁流变抛光的抛光机理然后利用标准磁流变抛光液进行抛光实验。研究了磁流变抛光中几种主要工艺参数对抛光区的大小和形状以及材料去除率的影响情况。最后给出了磁流变抛光材料去除的规律。摘要磁流变抛光是近十年来的一种新兴的先进光学制造技术它利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有粘塑行为的柔性小磨头进行抛光。被抛光光学元件的材料去除是在抛光区内实现的。首先简要阐述了磁流变抛光的抛光机理然后利用标准磁流变抛光液进行抛光实验。研究了磁流变抛光中几种主要工艺参数对抛光区的大小和形状以及材料去除率的影响情况。最后给出了磁流变抛光材料去除的规律。1引言20世纪90年代初WIKrdnskiIVPrkhrv及其合作者12突破了传统光学加工。

孙希威导师董申张飞虎磁流变抛光机床数控系统关键技术研究

前言磁流变抛光是国外近年来新兴的一种光学表面超精密加工技术。它将电磁学、流变学、化学综合作用于光学加工中可以实现对光学器件的高效精密抛光是获得超光滑光学表面的理想工艺之一目前已经被应用于对平面、球面、非球面的超精密加工可加工材料范围涵盖了光学玻璃、微晶玻璃、光学晶体等多数光学材料。磁流变抛光机床是实现磁流变抛光技术的重要基础设备本论文结合纳米级超光滑表面磁流变加工新技术研究的课题开发了磁流变抛光机床数控系统并对其诸如面形控制、轮廓控制、伺服控制及插补算法等关键技术进行了比较深入的研究。本文首先综述了国内外磁流变抛光技术和数控系统的发展状况对数控系统及超精密机床控制策略的发展和研究状况进行了总结。然后根据磁流变抛光机床的结构和运动方式从工程实际应用出发分析了磁流变抛光机床数控系统的功能和任务研制了一套基于PC的具有开放式体系结构的数控系统同时针对磁流变抛光的特点提出了磁流变抛。

磁流变液制备

1已初步开发出型号为KDC1的磁流变材料，经实验室小批量生产，工艺简单稳定有一定的沉降稳定性和较大的剪切强度，主要性能接近美国Lrd公司同类产品。目前该材料正被作为各种具有较高减震性能的磁流变液阻尼器的基本材料。2探索研究了多种金属和硫化物纳米粒子、新型纳米结构的新型制备方法，为今后磁性金属粒子及其复合结构的制备提供了多种重要的思路。3自行研制了圆盘旋转剪切式磁流变液流变性能测试系统，为研制新的MRF磁流变液提供了必备的测量手段，并已申报专利。4磁场作用以及静态压缩下磁流变液内部结构演化规律的显微观察为磁流变机理研究、相关力学模型的建立、MRF宏观力学性能的预报和磁流变应用器件的开发提供了实验依据。尤其是超强磁流变研究为应用器件商品化提供了新思路和新方法。例如利用MRF柔性夹具的设计和新MRF离合器设计。5平板、锥形、剪切式磁流变阻尼器的多种建模方法和相关实验研究，以及各种。

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磁流变抛光MRF技术的发展TheDevelpmentfMagnetrhelgicalFinishingMRFTechnlgy王伟郭忠达刘卫国许军锋维普资讯网为了保护电子资源的知识产权，信守辉瑞公司和数据库出版商之间的协议，保证广大合法用户的正当权益，特对本网站电子文献的使用提出如下声明1、请您在使用这些文献信息的时候注意我们所提供的文献信息仅限于以学术医学为目的的个人使用。2、为了平衡资源使用、满足更多用户需求，本服务采取限量方式每位用户每天最多限量下载10篇，每个月最多限量下载100篇。3、禁止恶意下载，禁止使用任何自动下载程序或装置来连续检索、查找和下载，禁止使用代理服务器为他人提供下载，禁止将个人帐号提供给其他人员使用禁止利用本网站下载的电子资源进行非法牟利。4、请各位用户务必遵守以上规定。对违规用户，本网站有权进行如下处理违规者的ID将被查封，违规者将被停止使用本网。

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磁流变抛光MRF，MagnetrhelgicalFinishing技术是20世纪90年代初美国Rchester大学光学研究中心的WIKrdnskiIVPrkhrv及合作者发明的并于90年代末将该项技术商业化。这种抛光方法利用磁流变抛光液在磁场中的流变性进行抛光抛光效率高、不产生下表面破坏层倍受世人青睐。该方法可在短短的几分钟内迅速使光学表面的面形精度收敛到120PV值表面粗糙度在1nm左右。MRF技术不仅是一种高精度可控的抛光技术，还是一种多用途的抛光技术，能抛光的光学零器件涵盖了平面、球面、非球面和自由曲面。尤其是对非球面的抛光，能用小磨头进行局部的精密修整从而达到所需要的精度。这种技术的优点是高精度、快捷、灵活。QED员工进行在线加工和检测QED公司生产的大型MRF抛光设备Q222000F型磁流变抛光机这套设备的特点是1凹透镜或者平面镜的最大加工尺寸能达到23米可以抛光。